ハードウェア初出 6/4 13:11
Formosa Chemicals、AIデータセンター材料とDUVフォトレジスト前駆体に進出
Formosa Chemicals moves into AI data center materials and DUV photoresist precursors
https://www.digitimes.com/rss/daily.xml2026/6/4
AI要約
長春化学は、半導体およびAIデータセンター向け高付加価値材料への事業拡大を発表。冷却ファン用材料やD UVフォトレジスト前駆体材料を開発中。