ハードウェア初出 9/7 11:52
Nauraの3D DRAMエッチング技術、CXMTにEUV超える新経路をもたらす可能性
Naura 3D DRAM etching breakthrough could give CXMT a new path beyond EUV
https://www.digitimes.com/rss/daily.xml2026/9/7
AI要約
中国のNaura Technologyは、64層3D DRAM構造の選択的エッチングプロセスを実証しました。これにより、最先端EUVリソグラフィへのアクセスが制限される中でも、国内メモリメーカーがトランジスタ密度を高める新たな道を開く可能性があります。
AI要点
- 中国のNaura Technologyが、64層3D DRAM構造用の選択的エッチングプロセスを実証しました。
- この技術は、EUVリソグラフィへのアクセスが制限されている状況下でのトランジスタ密度の向上につながる可能性があります。
- これにより、中国国内のメモリメーカーが新たな製造ルートを確保できるかもしれません。
なぜ重要か
EUVリソグラフィへのアクセスが制限される中、中国が独自の半導体製造技術開発を進めていることを示しており、将来的なグローバルなメモリ市場の競争構造に影響を与える可能性があります。