中国のEUVギャップは10～15年続く可能性、DUVの進歩は西側輸出規制を試す

中国は、最先端AIプロセッサに必要なEUVリソグラフィ技術の開発において、欧米に10～15年の遅れをとっていると評価されている。しかし、DUV技術での進展は欧米の輸出規制を試している。

• 中国のEUV（極端紫外線）リソグラフィ開発は、UBSやZeissの評価によると10～15年遅れている可能性がある。
• 一方で、DUV（深紫外線）リソグラフィの進歩は続いており、西側諸国の輸出規制を試す可能性がある。
• 中国は最先端半導体製造装置の国産化において、依然として大きな技術的ギャップに直面している。
• DUV技術の進歩は、中国が一定レベルの半導体製造能力を維持・向上させる手段となり得る。