論評：中国IC設計ルールが特許戦争を再編

中国の集積回路（IC）レイアウト設計保護規則が改正され、フォトニックおよび量子IC設計への保護が追加されました。これは、IC設計分野における技術開発と知的財産保護の動向を示しています。

• 中国で半導体設計ルール保護に関する規定が改正され、2026年10月15日から施行される。
• 改正された規定は、ICレイアウト設計の保護を強化するものとされる。
• これにより、中国国内および国際的な半導体分野における特許紛争の様相が変化する可能性がある。
• 半導体設計の知的財産権保護に関する新たな枠組みが形成される見込みである。