Intel 18A、デュアル認証強化のためHigh-NA EUVを採用

Intel Foundryは、Intel 18AプロセスでHigh-NA EUVリソグラフィを生産に導入しました。ASMLによると、Intelは最新のノートブックプロセッサの一部レイヤーにこの次世代ツールを使用しており、これは当初のロードマップよりも数年早い導入です。

• Intel Foundryは、最新のノートブック向けプロセスIntel 18AにおいてHigh-NA EUVリソグラフィを導入し、一部レイヤーで次世代ツールを使用しているとASMLが確認しました。
• Intel 18AプロセスにHigh-NA EUVリソグラフィが導入され、デュアル認証の強化を目指しています。
• ASMLの確認によれば、IntelはIntel 18Aプロセスの一部レイヤーにHigh-NA EUVツールを利用しています。
• High-NA EUVの導入は、Intel 18Aプロセスの性能向上と将来的な歩留まり改善に寄与すると期待されています。