Albany NanoTech Complex、ASML High NA EUVツールをチップ研究用に取得

Albany NanoTech Complexが、次世代チップ研究のためにASMLのHigh NA EUV装置を取得。米国内での最先端リソグラフィ研究開発拠点の設立に向けた重要な一歩であり、ムーアの法則の限界に迫るチップ微細化の進展に貢献。

• Albany NanoTech Complexが、ASML社の次世代High NA EUVツールの部品を受け入れました。
• これらのツールは、米国を拠点とした最先端チップ研究開発に使用される予定です。
• この導入は、米国内での半導体研究開発能力強化に向けた重要な一歩とされています。
• 最先端リソグラフィ技術の国内利用を促進します。